現(xiàn)代社會(huì)從收音機(jī)到攜帶電話,計(jì)算機(jī)及電視都離不開集成電路,而集成電路的生產(chǎn)和發(fā)展都離不開真空。

    水蒸氣遇冷會(huì)變成水滴。如果不是水蒸氣而換成鋁或其他材料,則同樣原理就是真空鍍氣。高真空中通過加熱使鋁蒸發(fā),鋁蒸氣飛到目標(biāo)表面而成膜。如果不是在真空狀態(tài),則鋁會(huì)燃燒起來。

    用久的螢光燈兩邊會(huì)發(fā)黑,這是濺射成膜的現(xiàn)象。惰性氣體Ar在燈管中經(jīng)過放電而成離子狀態(tài)。高速的Ar離子撞擊其他材料后使其蒸發(fā)。濺射成膜法不利用加熱而是利用使氣體分子離子化而完成。

除此之外,通過各種氣體的化學(xué)反應(yīng)而成膜（CVD）的方法也被廣泛使用。各種成膜方法各有特長(zhǎng),要根據(jù)需要而定。

    真空狀態(tài)不僅僅被利用于成膜方面,精密形成的薄膜上沾了灰塵或油滴之后會(huì)出現(xiàn)嚴(yán)重的后果。集成電路中細(xì)線的寬度是吸煙時(shí)吐出的煙霧顆粒的1/3, 是一顆灰塵的近萬(wàn)分之一。對(duì)集成電路而言,哪怕一顆煙霧的顆粒,就好象大路上停了一架大型飛機(jī)一樣,無(wú)法通過或造成短路。為了不讓灰塵落到正在生產(chǎn)的集成電路上,需要真空環(huán)境。

    科研領(lǐng)域更是離不開真空。宇宙開發(fā)方面,為了模擬宇宙空間,當(dāng)然需要真空狀態(tài)。人造衛(wèi)星,火箭的生產(chǎn)也需要真空。觀察原子的顯微鏡如果不是在真空狀態(tài)就無(wú)法觀測(cè)到物質(zhì)的表面。物理學(xué)中*先端的粒子加速器中的粒子,在超高真空狀態(tài)中被加速到接近光速。